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中國電科實現離子注入機全譜系產品國產化 連續(xù)突破高性能離子源等技術

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日期:2021-03-17 15:43:13    來源:新華網    

記者17日從中國電子科技集團有限公司獲悉,該集團旗下裝備子集團已成功實現離子注入機全譜系產品國產化,可為全球芯片制造企業(yè)提供離子注入機一站式解決方案。

離子注入機是芯片制造中的關鍵裝備。在芯片制造過程中,需要摻入不同種類的元素按預定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預定能量并注入至特定半導體材料中,離子注入機就是執(zhí)行這一摻雜工藝的芯片制造設備。

據介紹,中國電科連續(xù)突破高性能離子源、高速晶圓傳輸等“卡脖子”技術,自主研制中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等離子注入機,工藝段覆蓋至28nm,累計形成核心發(fā)明專利413項,實現我國芯片制造領域全譜系離子注入機自主創(chuàng)新發(fā)展,有效緩解我國芯片制造領域斷鏈、短鏈難題。

裝備子集團有關負責人表示,下一步,企業(yè)將瞄準高端,緊跟先進工藝發(fā)展,加快研發(fā)適用于更先進工藝節(jié)點的離子注入機并積極推進產業(yè)化。(記者溫競華)

關鍵詞: 離子注入機全譜系產品國產化

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